【盛源无油真空泵】盛源新型无油真空泵革新半导体制造工艺技术

  半导体工业是真空泵最大应用领域，也是当前主要的增长动力。ISVT多个方面数据显示，2019 年全球线 亿元，其中半导体用线%。ICInsights预计，到2025年全球半导体真空泵的设备与服务需求达到217亿元。

  真空泵大范围的应用于半导体制造的多个工艺环节，包括半导体大硅片生产环节的单晶炉，在晶圆制造环节的光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入机等，以及在封测环节的模塑设备领域等。

  真空系统对半导体工艺环节品质影响很大，必然的联系到芯片的性能和良率。只有在高品质的真空环境下，才能够有效地控制加工和测试中的氧化、污染等问题，来保证半导体器件的质量和可靠性。

  近年来，半导体工业对真空泵要求慢慢的升高，需要将制作的完整过程控制在更小的尺寸，要实现这一点，半导体工艺就必须在极度受控的真空环境下以更高精度和均匀性执行更多的半导体制造过程步骤，以提升产品的质量和生产效率，这就对真空泵的真空洁净度和稳定能力提出更严苛的要求。

  此外，由于半导体制造每条生产线不同，工艺需求也不同，要求真空泵具备高度的自动化和智能化，能够准确的通过工艺技术要求自动调节真空度和泵速，提高生产效率和稳定性。

  而传统真空泵一般是使用水或油进行真空阶段的密封或润滑，可能会产生不一样的污染和气体浸染，不足以满足清洁无油及耐腐蚀的要求，在某些特定的程度上会影响真空系统的质量。盛源推出的新一代无油真空泵，双倍高真空、无油低环保、低热高效，逐步优化半导体真空工艺，不仅消除半导体工艺中的油污染，而且运行成本低，因此备受客户青睐。

  盛源无油真空泵采用高精密高可靠真空泵头，含高精密过滤器，深度过滤杂质，真空更洁净，二级线pa，同时抽气快、狠和稳，满足半导体各工艺环节对真空环境高品质、高稳定性的严苛要求。

  采用进口皮碗原料，气缸内壁特殊处理，形成自润滑，因此真空泵无需加油润滑即可运行，不仅环保，而且确保半导体制造工艺的产品品质。

  盛源无油自润滑技术，让设备免于维护，而且在长久运行真空度会降低的情况下，也仅需更换易损件，更换一下，至少可以运行8000H以上。此外，核心配件采用进口品牌，确定保证产品寿命更加长，降低客户使用成本。

  半导体在真空泵的应用中，有害化学气体比较多，泵腔内温度过高，高温下易燃易爆及有毒气体就会易发生危险。盛源新一代无油真空泵采用纯铜电机，专业电机设计，满足24H连续运行，温低至50K，电机能效比高，极低发热量，避免危险事件发生。

  此外采用四级低转速电机，四缸对称设计，振动小，噪音低到60dB(A)，满足半导体的特殊工艺要求。

  在半导体制造领域，由于每条生产线工况都不相同，客户要定制化产品和解决方案，盛源新一代无油环保真空泵配置微电脑真空表，可灵活调节真空度，精确显示真实参数，使用起来更便捷快捷，能满足多种半导体不同产线工艺需求。

  盛源无油真空泵不仅适用于半导体制造领域，而且还大范围的应用于机器人自动化行业、包装机、医疗行业、航天实验室、精密仪器、电子印刷等领域。盛源是国内最早从国外引进无油真空泵并自主改进研发制造的企业，始终重视产品质量和性能升级，在无油线年的研发制造经验，具有专业化的研发实验室，掌握无油真空泵关键技术专利，把“为客户有价值的产品”作为经营理念，凭借高质量高效率高稳定性的产品的优点，已获得海内外500强企业的青睐。

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  半导体工业是真空泵最大应用领域，也是当前主要的增长动力。ISVT多个方面数据显示，2019 年全球线 亿元，其中半导体用线%。ICInsights预计，到2025年全球半导体真空泵的设备与服务需求达到217亿元。

  真空泵大范围的应用于半导体制造的多个工艺环节，包括半导体大硅片生产环节的单晶炉，在晶圆制造环节的光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入机等，以及在封测环节的模塑设备领域等。

  真空系统对半导体工艺环节品质影响很大，必然的联系到芯片的性能和良率。只有在高品质的真空环境下，才能够有效地控制加工和测试中的氧化、污染等问题，来保证半导体器件的质量和可靠性。

  近年来，半导体工业对真空泵要求慢慢的升高，需要将制作的完整过程控制在更小的尺寸，要实现这一点，半导体工艺就必须在极度受控的真空环境下以更高精度和均匀性执行更多的半导体制造过程步骤，以提升产品的质量和生产效率，这就对真空泵的真空洁净度和稳定能力提出更严苛的要求。

  此外，由于半导体制造每条生产线不同，工艺需求也不同，要求真空泵具备高度的自动化和智能化，能够准确的通过工艺技术要求自动调节真空度和泵速，提高生产效率和稳定性。

  而传统真空泵一般是使用水或油进行真空阶段的密封或润滑，可能会产生不一样的污染和气体浸染，不足以满足清洁无油及耐腐蚀的要求，在某些特定的程度上会影响真空系统的质量。盛源推出的新一代无油真空泵，双倍高真空、无油低环保、低热高效，逐步优化半导体真空工艺，不仅消除半导体工艺中的油污染，而且运行成本低，因此备受客户青睐。

  盛源无油真空泵采用高精密高可靠真空泵头，含高精密过滤器，深度过滤杂质，真空更洁净，二级线pa，同时抽气快、狠和稳，满足半导体各工艺环节对真空环境高品质、高稳定性的严苛要求。

  采用进口皮碗原料，气缸内壁特殊处理，形成自润滑，因此真空泵无需加油润滑即可运行，不仅环保，而且确保半导体制造工艺的产品品质。

  盛源无油自润滑技术，让设备免于维护，而且在长久运行真空度会降低的情况下，也仅需更换易损件，更换一下，至少可以运行8000H以上。此外，核心配件采用进口品牌，确定保证产品寿命更加长，降低客户使用成本。

  半导体在真空泵的应用中，有害化学气体比较多，泵腔内温度过高，高温下易燃易爆及有毒气体就会易发生危险。盛源新一代无油真空泵采用纯铜电机，专业电机设计，满足24H连续运行，温低至50K，电机能效比高，极低发热量，避免危险事件发生。

  此外采用四级低转速电机，四缸对称设计，振动小，噪音低到60dB(A)，满足半导体的特殊工艺要求。

  在半导体制造领域，由于每条生产线工况都不相同，客户要定制化产品和解决方案，盛源新一代无油环保真空泵配置微电脑真空表，可灵活调节真空度，精确显示真实参数，使用起来更便捷快捷，能满足多种半导体不同产线工艺需求。

  盛源无油真空泵不仅适用于半导体制造领域，而且还大范围的应用于机器人自动化行业、包装机、医疗行业、航天实验室、精密仪器、电子印刷等领域。盛源是国内最早从国外引进无油真空泵并自主改进研发制造的企业，始终重视产品质量和性能升级，在无油线年的研发制造经验，具有专业化的研发实验室，掌握无油真空泵关键技术专利，把“为客户有价值的产品”作为经营理念，凭借高质量高效率高稳定性的产品的优点，已获得海内外500强企业的青睐。